| Türü | Kuvars wafer taşıyıcı |
|---|---|
| Uygulama | Yarı iletken, optik |
| Kalınlığı | 0,5-100 mm |
| Şekli | Karesi |
| İşleme hizmeti | Bükme, Kaynak, Delme, parlatma |
| Türü | Temizle Kuvars Plaka |
|---|---|
| Uygulama | Yarı iletken, optik |
| Kalınlığı | 0,5-100 mm |
| Şekli | Kare/Yuvarlak |
| İşleme hizmeti | Bükme, Kaynak, Delme, parlatma |
| Malzeme | SIO2 |
|---|---|
| Sertlik | Mors 6.5 |
| Çalışma sıcaklığı | 1200 ℃ |
| Yüzey kalitesi | 20/40 veya 40/60 |
| Dielektrik dayanım | 250 ° 400kV / cm |
| Ürün adı | Laboratuvar Reaktif Şişesi |
|---|---|
| Malzeme | SIO2>%99,9 |
| Yoğunluk | 2.2g/cm3 |
| Çalışma sıcaklığı | 1100℃ |
| asit toleransı | Seramikten 30 kat, paslanmaz çelikten 150 kat |
| Türü | Temizle Kuvars Plaka |
|---|---|
| Uygulama | Yarı iletken, optik |
| Kalınlığı | 0,5-100 mm |
| Şekli | Karesi |
| İşleme hizmeti | Bükme, Kaynak, Delme, parlatma |
| Türü | Berrak Kuvars Tüp |
|---|---|
| Uygulama | Yarı iletken, optik |
| Kalınlığı | 0,5-100 mm |
| Şekli | Yarım daire biçimli |
| İşleme hizmeti | Bükme, Kaynak, Delme, parlatma |
| Türü | Temizle Kuvars Plaka |
|---|---|
| Uygulama | Yarı iletken, optik |
| Kalınlığı | 0,5-100 mm |
| Şekli | Karesi |
| İşleme hizmeti | Bükme, Kaynak, Delme, parlatma |
| Malzeme | SIO2 |
|---|---|
| Sertlik | Mors 6.5 |
| Çalışma sıcaklığı | 1100 ℃ |
| Yüzey kalitesi | 20/40 veya 40/60 |
| Dielektrik dayanım | 250 ° 400kV / cm |
| Malzeme | SIO2 |
|---|---|
| Sertlik | Mors 6.5 |
| Çalışma sıcaklığı | 1100 ℃ |
| Yüzey kalitesi | 20/40 veya 40/60 |
| Dielektrik dayanım | 250 ° 400kV / cm |
| Malzeme | SIO2 |
|---|---|
| Sertlik | Mors 6.5 |
| Çalışma sıcaklığı | 1200 ℃ |
| Yüzey kalitesi | 20/40 veya 40/60 |
| Dielektrik dayanım | 250 ° 400kV / cm |
